畴壁(DW)存储器已经研究多年,因为它具有成为快速和非易失性存储器件的潜力,这是由于磁化动力学,磁剩磁和高热稳定性的纳秒时间尺度1。以往,自旋扭矩技术用于传播个DW,如自旋转移力矩和自旋轨道扭矩1,2,3,4。这些技术通常导致DW的随机运动,因为它由存在于材料中的随机分散的固有钉扎点固定。为了实现确定性钉扎,几何槽口和磁特性的改变已被用来创建用作钉扎部位的能量壁垒1,5,6,7,8。然而,DW需要更高的激发能量才能脱离。电场控制,还提出通过局部改变材料的磁各向异性到管脚个DW9,10。该技术降低了能量消耗,因为当DW需要再次移动时可以关闭钉扎点。
自旋扭矩技术需要高电流密度,这固有地导致电阻损失,导致焦耳加热。规避功率损耗和防止焦耳加热,电场控制的方法可用于操纵磁装置的特性由于其高效节能性质11,12,13。电压控制的磁各向异性(VCMA)是已被证明减少在MTJ器件的开关所需要的电流密度电场控制的形式14,15。对于DW设备,DW的能量可以表示为σ,其中σα甲ķü----√undefined。这里,A表示交换刚度参数,Ku表示磁各向异性能量。因此,通过VCMA降低磁性材料的Ku可以减少DW能量。VCMA效应也已经通过实验实现,以帮助DW在蠕变状态12中传播。
可以使用磁能纳米线(NW)的DW能量和Ku来描述在x方向上施加在DW上的力,F(x)=-(∂σ/∂ķü)⋅(∂ķü/∂x)undefined。因此,沿着x方向的x方向上的磁各向异性梯度(dķü/dXundefined)将对DW施加影响。通过使用如图1(a)(i)所示的楔形绝缘体,可以产生倾斜的电场,从而产生dķü/dXundefined其可用于繁殖或辅助的DW传播1,9,16,17,18,19,20,21,22,23,24。然而,这种楔形结构对于较长的NW不能很好地扩展,因为加长的NW将导致NW端部处的绝缘体越来越厚或越薄。在具有较薄绝缘层的末端,强电场可能导致绝缘层的介电击穿。此外,最近在MTJ中报道,VCMA系数在低电场时仅为线性,但在较高电场时饱和。25,26。这对于倾斜的VCMA DW存储器设备的NW长度构成限制。
(a)(i)用于传播DW的倾斜绝缘体的示意图。(a)(ii)用于传播DW的倾斜栅电极的建议示意结构。磁NW的宽度为64nm,厚度为1nm。(b)实线表示的初始平均ķü在ÿ轴。虚线表示驱动由绿色垂直线表示的DW的平均值Ku。顶部和底部插图分别表示初始和驱动阶段的NW的Ku。黄色突出显示的区域表示斜率的渐变,其中线性拟合给出dķü/dXundefined传播DW。(c)将各种GW作为NW宽度的百分比进行比较,其中NW宽度的30/50 / 70%等于GW为20/32/44 nm。各向异性变化+ 20kJ / m3和-20kJ / m3分别应用于高和低各向异性区域,以说明横跨NW长度的Ku依赖性。
在这项工作中,我们展示了一种节能的DW传播技术,其中adķü/dXundefined沿着NW使用重复的一系列栅电极产生。三个栅电极可以产生局部高 - 中 - 低Ku区域,其可以用于在任何长度的NW上以高速度传播具有确定性位移的DW。分析了由于使用栅电极操纵Ku引起的DW动态,导致优化的DW传播技术。该结果为使用VCMA的高速且精确的DW存储器件提供了有希望的途径。